光學微影與解析度增益技術
Optical Microlithography and Resolution Enhancement Techniques
學期
106-2
學分
0
學分
當期課號
5103
永久課號
IEO5382
開課單位
光電工程學系
授課教師
余沛慈
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週三 |
|---|---|
5 13:20–14:10 | 光學微影與解析度增益技術 EO115（光復） 2 節連堂 |
6 14:20–15:10 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
本課程希望藉由深入淺出的介紹,使學生與不同領域的專業人士能對光學微影製程與技術演進建立基本的瞭解,期能互相溝通與合作,將各自不同領域的專業能力應用於解決現今半導體微影製程之挑戰,並開創新的契機。
先修科目
無
備註
無備註
教學方式
教師未提供此項資料
評分方式
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課程大綱
- I. Introduction to Optical Microlithography
- II. Resolution Enhancement Techniques (RET)
- III. Future Lithography Technologies
週次計畫
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教科書
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Office Hours
- 地點
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- 時間
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- 聯絡方式
- 教師未提供此項資料