8/24 – 9/18

115-1 選課時程

進行中

  • 初選第一階段 6/15 – 6/18
  • 初選第二階段 6/22 – 6/25
  • 校際選修 進行中 8/24 – 9/18
  • 初選第三階段 8/31 – 9/3
  • 開學後加退選 9/7 – 9/21
  • 逾期加退選 9/21 – 9/24
選課資源
沒有可匯出的固定上課時間。

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材料工程實驗(二)

Advanced Materials Labs.(II)

學期
114-2
學分
0 學分
當期課號
516306
永久課號
ENMS10023
開課單位
材料科學與工程學系
授課教師
吳文偉
類別
必修
概述

(1)培育學生材料相關實驗技術(真空系統、元件原理與製程等)。 (2)訓練學生半導體元件之製備基本技術,使有實際之操作與元件測試經驗,以為未來之研究所需。

先修科目

材料科學導論、電子材料或電子元件物理相關之學理知識

備註

無備註

教學方式

實驗助教:洪子欽、程佳得、胡維綸、蔡震東 (工六館 EF607室,分機:55346) 參考書籍:"真空技術與應用",行政院國科會,精密儀器發展中心,民國90年;"真空技術",蘇青森,東華書局,民國88年;HomePfeiffier-Vacuum OnlineKatalog.;A.A.R. Elshabini-Riad and F.D. Barrlow III, "Thin Film Technology Handbook", McGraW-Hill International, (1997);"Vacuum Physics and Technology", ed. by G.L. Weissler and R.W. Carlson, Academic Press, (1979);A. Roth, Vacuum Technology, North-Holland, (1976);"The Temperature Handbook", Omega International Co.

評分方式

期中實驗報告(40%)、期末實驗報告(40%)及所完成之元件是否具備應有之電氣性質之操作考核(20%)為評分基礎,並以實驗平時考核(助教及任課老師依學生之平時表現對原始總分進行正負5分之調整)評定學期總分。

課程大綱
  • 半導體元件原理與製程方法
  • 半導體元件(p-n二極體)製作
  • 真空系統原理、組成與應用
週次計畫
週次主題
第 1 週Course Introduction
第 2 週Experiment Introduction
第 3 週Lab I Exposure & Lithography
第 4 週Metal Deposition (Al, Cr, Ti)
第 5 週Lift-off & Annealing
第 6 週Electrical Measurement
第 7 週Spring break
第 8 週Report Writing
第 9 週Lab II Exposure & Lithography
第 10 週Break
第 11 週Diffusion
第 12 週Exposure & Lithography-2 & Metal Deposition
第 13 週Exposure & Lithography-3 & Metal Deposition
第 14 週Metal Deposition (Al, Cr, Ti)
第 15 週Lift-off & Electrical Measurement
第 16 週Test
教科書

(自編講義)

Office Hours
地點
工程六館 329室
時間
星期三下午1:30~3:30 星期五早上10:00~12:00
聯絡方式
分機 55395